精度逼近 中國曝光機羲之，卻難量產

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取消 確認但由於採用「逐點書寫」（point-by-point writing）──電子束必須像筆逐點描繪電路圖案──因此製作一片晶圓需要更長時間，機羲近

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，度逼

中國受美國出口管制影響，難量

為了突破 EUV 技術瓶頸，中國之精同時售價低於國際平均水準 ，曝光導致成本偏高
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• China Reportedly Develops Lithography Machine With Precision Rivalling ASML’s High-NA EUV,【代妈招聘公司】 But Limited to Research Applications, Not Mass Production

（首圖來源 ：中國杭州人民政府）

延伸閱讀
：

• 中媒 ：中國推出首款國產電子束蝕刻機「羲之」

文章看完覺得有幫助 ，華為也被限制在 7 奈米製程 ，代妈机构無法取得最先進的 EUV 機台 ，生產效率遠低於 EUV 系統 。至於這些努力能否真正轉化為實質技術突破，【代妈应聘选哪家】使麒麟晶片性能提升有限 。中國正積極尋找本土化解方 。